Gáis eitseála a úsáidtear go coitianta le haghaidh leathsheoltóra

Sa phróiseas déantúsaíochta sliseanna, ní hamháin go bhfuil gá le trealamh lárnach nó ábhair cosúil le meaisíní liteagrafaíocht, meaisíní eitseála, photoresists, agus sliseog sileacain, ach freisin gás speisialta sa tionscal ar a dtugtar gás leictreonach. Mar cheann de na hamhábhair in aghaidh an tsrutha sa slabhra tionsclaíoch, tá baint ag gáis leictreonacha speisialta le naisc éagsúla mar eitseáil, glanadh, fás epitaxial, agus ionchlannú ian. Tá siad fíor-riachtanach don tionscal déantúsaíochta sliseanna ar fad, mar sin tugtar "fuil" leathsheoltóirí orthu.

Ós rud é go mbíonn tionchar ag gás leictreonach ar fheidhmíocht, comhtháthú, toradh agus príomhtháscairí eile ciorcaid chomhtháite, tá ceanglais ard ann maidir le íonacht an gháis leictreonaigh. Mar gheall ar mhórdheacrachtaí próisis, tá gás leictreonach ar an dara ábhar is mó, agus níl a sciar costais sa dara háit ach amháin maidir le sliseoga sileacain.

Gáis eitseála a úsáidtear go coitianta le haghaidh leathsheoltóra

1. Gás fluairíd:

heicseafluairíd sulfair(SF6)

Tá heicseafluairíd sulfair SF6 ar cheann de na gáis fluairíd is coitianta a úsáidtear in eitseáil tirim leathsheoltóra. Tá sé tréithrithe ag roghnaíocht ard agus ráta láidir eitseála. Tá sé oiriúnach le haghaidh eitseáil ábhair tairiseach tréleictreach íseal mar ocsaíd sileacain, fluairíd sileacain, nítríd sileacain, etc.

Tuilleadh eolais faoi heicseafluairíd sulfair(SF6)>>

teitreafluairíd charbóin(CF4)

Úsáidtear tetrafluorideis charbóin CF4 freisin i bpróisis éagsúla eitseála sliseog. Is é CF4 an gás eitseála plasma is mó a úsáidtear sa tionscal micrileictreonaic faoi láthair. Is féidir é a úsáid go forleathan in eitseáil ábhair scannáin tanaí ar nós sileacain, dé-ocsaíd sileacain, nítríde sileacain, gloine fosfosileacáit agus tungstain, agus i nglanadh dromchla gléasanna leictreonacha agus cealla gréine. Úsáidtear go forleathan é freisin i dtáirgeadh teicneolaíocht léasair, insliú céim gáis, cuisniú íseal-teocht, gníomhairí braite sceite, dearcadh roicéad spáis a rialú, agus gníomhairí dí-éillithe i dtáirgeadh ciorcad priontáilte.

Tuilleadh eolais faoi teitreafluairíd charbóin(CF4)>>

Trífhluairíd Nítrigine(NF3)

Tá an ráta eitseála is moille i measc gáis fluairíde ag Gás Trifluairíd Nítrigine NF3, ach tá dea-roghnaíocht aige. Oibríonn sé go maith nuair a bhíonn ábhair éagsúla scoite óna chéile agus tá sé oiriúnach freisin chun ábhair orgánacha a eitseáil.

Tuilleadh eolais faoi Trífhluairíd Nítrigine(NF3)>>

2. Gás Ocsaíd:

Is gás ocsaíd coitianta é O2 in eitseáil tirim leathsheoltóra agus is féidir é a úsáid chun ocsaídí agus ábhair miotail a ocsaídiú. Tá ráta eitseála mall ag O2 ach roghnaíocht láidir, agus mar sin tá sé oiriúnach chun an chuid is mó d'ábhair ocsaíd a eitseáil.

H2O

Is gás ocsaíd é H2O le dea-scíth a ligean agus is féidir é a úsáid le haghaidh grianghrafadóirí crua agus roisíní orgánacha a eitseáil. Mar sin féin, nuair a bheidh sé measctha le gás fluairíd, beidh tionchar aige ar roghnaíocht an imoibrithe.

N2O

Is féidir N2O a úsáid chun sileacain hidriginithe agus ábhair mhiotail a ocsaídiú. Tá a ráta eitseála níos tapúla ná O2, ach tá a roghnaíocht níos measa ná O2.

Is iad seo thuas na cineálacha agus na saintréithe gáis a úsáidtear go coitianta in eitseáil tirim leathsheoltóra. Tá a gcur i bhfeidhm sa phróiseas eitseála an-tábhachtach. Chun ábhair éagsúla agus críocha eitseála éagsúla, is gá gáis chuí a roghnú le haghaidh eitseála.

muidTá professional ETCHING GÁS soláthraí, wfáilte romhat teagmháil a dhéanamh linn le haghaidh tuilleadh sonraí!